O₂/FTES-Helicon Plasma CVD 방법에 의한 Fluorocarbonated-SiOF 박막형성과 그 특성
- Issued Date
- 1998
- Awarded Date
- 1998
- Type
- Dissertation
- Department
- 제주대학교 대학원: 물리학과
- Degree
- Master
- Publisher
- 濟州大學校
- Citation
- 오경숙. (1998). O₂/FTES-Helicon Plasma CVD 방법에 의한 Fluorocarbonated-SiOF 박막형성과 그 특성
- Appears in Collections:
- Faculty of Applied Energy System > Physics
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