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ICPCVD방법으로 만든 Si-O-C 박막의 XPS 분석에 의한 화학적 결합 구조의 변화

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Author(s)
최치규
Publication Year
2002-06
URI
https://oak.jejunu.ac.kr/handle/2020.oak/4149
Publisher
제주대학교 공과대학 첨단기술연구소
Location
대한민국
Citation
최치규. (2002-06). ICPCVD방법으로 만든 Si-O-C 박막의 XPS 분석에 의한 화학적 결합 구조의 변화. 尖端技術硏究所論文集, 제13권 1호, 115-119
Type
Article
ISSN
1598-5849
Authorize & License
  • AuthorizeOpen
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