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(물리학) 후 열처리에 따른 저유전율 SiOC(-H) 박막의 특성연구

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Author(s)
최치규
Publication Year
2007-06
URI
https://oak.jejunu.ac.kr/handle/2020.oak/5100
Publisher
濟州大學校 基礎科學硏究所
Location
대한민국
Citation
최치규. (2007-06). (물리학) 후 열처리에 따른 저유전율 SiOC(-H) 박막의 특성연구. 基礎科學硏究, 제20권 제1호, 115-123
Type
Article
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